溅射

Opera将精确的有限元分析与等离子，溅射和薄膜沉积的详细模型相结合，为磁控管设计和优化提供了第一个实用工具。

磁控管和溅射镀膜机的设计人员第一次可以使用有效的设计模拟工具。在工程和产品设计的许多领域，这些工具已经证明有能力提高性能，降低成本和开发时间，并帮助创新以提供竞争优势。

Opera可用于预测目标侵蚀并优化利用率。它可以准确地表征磁体系统的设计，包括多目标涂布机，它可以预测沉积的薄膜轮廓和沉积动力学。

设计能力

• 直流磁控管的设计和优化
• 磁铁阵列设计
• 单目标和多目标涂布机
• 平衡和不平衡配置
• 目标侵蚀剖面和利用率
• 沉积率
• 温升/热负荷

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