磁控溅射

溅射涂层广泛用于制造薄膜,应用范围广泛 – 从玻璃上的装饰性和低发射率涂层,到当今最苛刻应用中使用的产品上的工程涂层。沉积膜性质的优化和溅射靶的利用对于最终产品的性能和该方法的经济性是至关重要的。Opera将精确的有限元分析与等离子,溅射和薄膜沉积的详细模型相结合,为磁控管设计和优化提供了第一个实用工具。

磁控管和溅射镀膜机的设计人员第一次可以使用有效的设计模拟工具。在工程和产品设计的许多领域,这些工具已经证明有能力提高性能,降低成本和开发时间,并帮助创新以提供竞争优势。

溅射沉积剖面

溅射沉积剖面

Opera与磁控管设计人员特别相关的仿真功能包括:
•使用先进的有限元模拟进行全3D系统评估和设计
•模拟过程中的磁场计算
•在多磁控涂层环境中包括来自相邻磁控管的杂散场
•自洽带电粒子建模,包括空间电荷和相对论效应
•快速评估设计变量
•多变量,多目标优化

模拟与测量的轮廓

模拟与测量的轮廓,由Miba Coating Group,Teer Coatings Ltd Droitwich,UK提供

使用Opera,设计师可以预测和优化:
•侵蚀槽轮廓
•目标利用率
•基材涂层轮廓
•涂层动力学 – 特性和质量

模拟图与测量剖面图

仿真与测量曲线图,由Miba Coating Group,Teer Coatings Ltd Droitwich,UK提供

有关Opera的更多详情,请联系我们
SHANG HAI

Opera中国

上海捷岩信息科技有限公司
+ 86 21 5484 3152

www.operafea.cn

info@operafea.cn
LOCATIONS

We Are Everywhere



WECHAT

Opera 公众号


GET IN TOUCH

Follow Our Activity

对于持续的电磁相关内容,所有最新的Opera产品信息等,请务必关注我们的以下页面